14纳米制程工艺的芯片国内能生产，但相关设备高度依赖进口。
至于14纳米一下，国内目前无法制造。
现在，世界上最先进的芯片制程工艺是3纳米。
14纳米、7纳米、5纳米，再到3纳米，比起国内，整整先进了四代。
而他们这些人，以及相关的高校、机构直接跳过了前面的三代，直接研究3纳米芯片制程工艺。
相关的设备如刻蚀机、薄膜沉寂设备等等都已解决，就剩下最为核心的光刻机了。
而光刻机中的三大难题，euv光源、双工件台和光学镜头，其中双工件台的难题已经解决。
euv光源的问题，清大研制的同步辐射光源虽说极其耗能，但能用。
最后就是光学镜头了。
就他知道的专业研究光学镜头的团队就超过了五个，再加上一些不知名的，参入euv光学镜头研究的团队很多。
相对来说，上岭大学光学镜头研究中心走在了最前列，一旦突破离子束抛光技术，euv光刻机光学镜头的难题将得到解决。
那时euv光刻机的制造不再是难题，这也意味着他们实现了弯道追赶，掌握自主可控的3纳米芯片制程工艺。
他觉得，突破离子束抛光技术的时间快了，那怕苏哲那没有进展，靠他们自己，再来两轮差不多就成功了。